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Dispositifs à semiconducteurs - Dispositifs microélectromécaniques - Partie 26 : description et méthodes de mesure pour structures de microtranchées et de microaiguille

NF EN 62047-26

Suivie par la Commission : Dispositifs à semiconducteurs Origine des travaux : Européenne
    Motif : Nouveau document

Résumé:

La présente partie de la IEC 62047 spécifie des descriptions de structures de tranchées et de structures d'aiguille à l'échelle micrométrique. En outre, elle donne des exemples de mesures de la géométrie des deux structures. Pour les structures de tranchées, la présente norme s'applique à des structures de profondeur comprise entre 1 micron m et 100 micron m, avec des parois et des tranchées de largeur comprise entre 5 micron m et 150 micron m et avec un rapport hauteur/largeur compris entre 0,006 7 et 20. Pour les structures d'aiguille, la norme s'applique à des structures à trois ou quatre faces dont la hauteur, la largeur horizontale et la largeur verticale sont supérieures ou égales à 2 micron m, et dont les dimensions permettent de placer chaque structure dans un cube de 100 micron m de côté.

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Informations complémentaires :
  • Les normes sont élaborées par des commissions de normalisation, gérées par AFNOR et les Bureaux de normalisation des professions, qui rassemblent des représentants de toutes les parties intéressées (producteurs, utilisateurs, pouvoirs publics, associations, centres techniques, …).

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