Suivie par la Commission : | Dispositifs à semiconducteurs | Origine des travaux : | Européenne |
Motif : | Nouveau document | ||
Résumé: | |||
La présente partie de la IEC 62047 spécifie la méthode d'essai de flexion des matériaux en couche mince de longueur et largeur inférieures à 1 mm et d'épaisseur comprise entre 0,1 micromètre et 10 micromètres. Les couches minces sont les principales structures utilisées pour les matériaux des systèmes microélectromécaniques (dont l'abréviation utilisée dans le présent document est MEMS, Micro-Electromechanical Systems) et des micromachines. Les structures des matériaux principaux pour les systèmes microélectromécaniques, les micromachines, etc., présentent des caractéristiques spéciales telles que des dimensions de l'ordre de quelques microns, la fabrication des matériaux par dépôt, la photolithographie et/ou les éprouvettes d'essai par usinage non mécanique. La présente Norme Internationale spécifie les essais de flexion et la forme des éprouvettes d'essai pour des éprouvettes d'essai de type en porte-à-faux lisses microminiaturisés, qui garantissent une précision correspondant aux caractéristiques spéciales. Voir plus Voir moins |
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Informations complémentaires : | |||
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