Dispositifs à semiconducteurs - Dispositifs microélectromécaniques - Partie 2 : méthodes d'essais de traction des matériaux en couche mince

Cette norme internationale spécifie la méthode pour les essais de traction des matériaux en couche mince d'une longueur et d'une largeur inférieure à 1 mm et d'une épaisseur inférieure à 10 micro m, qui sont des matériaux structurels principaux pour les systèmes microélectromécaniques (MEMS), micromachines et dispositifs analogues. Les matériaux structurels principaux pour les MEMS, les micromachines et autres dispositifs analogues comportent des caractéristiques spéciales telles que des dimensions typiques de l'ordre de quelques microns, une fabrication de matériau par dépôt, et une fabrication d'éprouvettes d'essai par usinage non mécanique au moyen de la gravure et de la photolithographie. Cette norme internationale spécifie la méthode d'essai qui garantit une précision correspondant aux caractéristiques spéciales.

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