Suivie par la Commission : | Dispositifs à semiconducteurs | Origine des travaux : | Européenne |
Motif : | Nouveau document | ||
Résumé: | |||
Cette norme internationale spécifie une éprouvette d'essai normalisée, qui est utilisée pour garantir le bien-fondé et la précision du système d'essais de traction pour les matériaux en couche mince avec une longueur et une largeur inférieures à 1 mm et une épaisseur inférieure à 10 micro m, et qui sont des matériaux de structure principaux pour les systèmes microélectromécaniques (MEMS), les micromachines et dispositifs analogues. Cette norme internationale repose sur un concept tel qu'un système d'essais de traction puisse être garanti du point de vue du bien-fondé et de la précision, lorsque les résistances à la traction mesurées des éprouvettes d'essai normalisées, dont la résistance à la traction est prédéterminée, se situent dans la plage désignée. Elle spécifie également les éprouvettes d'essai pour minimiser les écarts de caractéristiques parmi les éprouvettes. Voir plus Voir moins |
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Informations complémentaires : | |||
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