10 résultats pour : "NF EN 62047-1"

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Les normes volontaires sont élaborées par des commissions de normalisation, gérées par AFNOR et les Bureaux de normalisation sectoriels, qui rassemblent des représentants de toutes les parties intéressées (producteurs, utilisateurs, pouvoirs publics, associations, centres techniques, …). Les normes françaises sont homologuées.

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Titre Référence Filière Publication Avis Suivi
Dispositifs à semiconducteurs - Dispositifs microélectromécaniques - Partie 1 : termes et définitions NF EN 62047-1 Française 05/11/2016 Répondre Non suivi
Dispositifs à semiconducteurs - Dispositifs microélectromécaniques - Partie 2 : méthodes d'essais de traction des matériaux en couche mince NF EN 62047-2 Française 20/11/2006 Répondre Non suivi
Dispositifs à semiconducteurs - Dispositifs microélectromécaniques - Partie 16 : méthodes d'essai pour déterminer les contraintes résiduelles des films de MEMS - Méthodes de la courbure de la plaquette et de déviation de poutre en porte-à-faux NF EN 62047-16 Française 14/11/2015 Répondre Non suivi
Dispositifs à semiconducteurs - Dispositifs microélectromécaniques - Partie 26 : description et méthodes de mesure pour structures de microtranchées et de microaiguille NF EN 62047-26 Française 11/08/2018 Non suivi
Dispositifs à semiconducteurs - Dispositifs microélectromécaniques - Partie 12 : méthode d'essai de fatigue en flexion des matériaux en couche mince utilisant les vibrations à la résonance des structures à systèmes microélectromécaniques (MEMS) NF EN 62047-12 Française 06/07/2012 Répondre Non suivi
Dispositifs à semiconducteurs - Dispositifs microélectromécaniques - Partie 3 : éprouvettes d'essai normalisée en couche mince pour l'essai de traction NF EN 62047-3 Française 20/11/2006 Répondre Non suivi
Dispositifs à semiconducteurs - Dispositifs microélectromécaniques - Partie 6 : méthodes d'essais de fatigue axiale des matériaux en couche mince NF EN 62047-6 Française 04/09/2010 Répondre Non suivi
Dispositifs à semiconducteurs - Dispositifs microélectromécaniques - Partie 14 : méthode de mesure des limites de formage des matériaux à couche métallique NF EN 62047-14 Française 14/12/2012 Répondre Non suivi
Dispositifs à semiconducteur - Dispositifs microélectromécaniques - Partie 10 : essai de compression utilisant la technique des micro-piliers pour les matériaux des MEMS NF EN 62047-10 Française 14/12/2012 Répondre Non suivi
Dispositifs à semiconducteurs - Dispositifs microélectromécaniques - Partie 11 : méthode d'essai pour les coefficients de dilatation thermique linéaire des matériaux autonomes pour systèmes microélectromécaniques NF EN 62047-11 Française 12/03/2014 Répondre Non suivi
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